1939年Hull设计出赫尔槽以来，由于赫尔槽试验效果好，操作简单，所需溶液体积少，并在一次试验过程中可以在宽广的电流密度范围内观察到镀层情况的变化，并能较快地确定获得外观合格镀层的近似电流密度值及其他工艺条件（如温度、pH值等），是槽液维护、控制、修正及新工艺试验时常用的试验方法。因此，赫尔槽被广泛用于研究溶液的主要成分、添加剂的含量以及工艺条件的影响，探明镀液内部产生电镀故障的原因等。此外，赫尔槽还可用来研究镀液的分散能力、覆盖能力、镀层的整平性、韧性和耐蚀性等。它对综合评定镀液的性能极为方便。
本文转载自《电镀故障手册》编著 谢无极
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