镀镍液中铜杂质的去除

    铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu²⁺污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu²⁺还会造成镀层脆性增大及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ(Cu²⁺)应为0.01g/L。去除镀液中的Cu²⁺有以下几种方法。

    1)电解法。即用低电流密度使镀液中的Cu²⁺沉积在处理阴极板上的方法。用于处理的阴极板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，阴极板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu²⁺和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴极板受尖端效应的影响，电解过程中Ni²⁺和Cu²⁺同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴极可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm²时有利于Cu²⁺在阴极析出。

    不论采用哪种型式的阴极进行电解处理都应注意几个问题:a.长时间电解处理时，应定时清洗电解板，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液;b.采用阴极移动或空气搅拌可以提高处理效果;c.电解处理中使用的阳极板必须是优质的镍阳极板，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。

    2)化学沉淀剂法。常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁氰化物，在镀液中与Cu²⁺生成亚铁氰化铜沉淀，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。

    3)螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu²⁺形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni²⁺共沉积，可以使镀液中ρ(Cu²⁺)不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用优质的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。

    

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