化学机械抛光液（10）

本品化学机械抛光液（10），成分比较多，其包括二氧化硅、氧化铝、二氧化铈、二氧化钛和/或离高分子研磨颗粒等等，主要应用于抛光铝薄膜，能提高机械表面的美观视觉效果。下面科普本品化学机械抛光液（10）的相关知识，我们不妨来了解一下。

制备方法

将各组分溶于水混合均匀即可，

原料配伍

本品各组分质量份配比范围为:研磨颗粒1~20，化学添加剂0.001~10，抑制剂0.001~5，一元羧酸、二元羧酸、多元羧酸和或其盐0.1~10，水加至100。

所述研磨颗粒优选二氧化硅、氧化铝、二氧化铈、二氧化钛和/或离高分子研磨颗粒。

所述化学添加剂为聚羧酸类化合物和/或其盐。其中，所述的聚羧酸类化合物为聚丙烯酸类化合物和/或丙烯酸类化物的共聚物，所述的盐为铵盐、钾盐或钠盐，其分子量2000~300000之间。

所述的丙烯酸类化合物的共聚物优选苯乙烯、顺丁烯二酸酐或丙烯酸酯与丙烯酸类化合物的共聚物。

所述的聚丙烯酸类化合物优选为聚丙烯酸，丙烯酸类化合物优选丙酸酯丙烯酸共聚物，它们的分子量优选在2000~1000000之间，该聚丙酸的分子量更优选30000。

所述抑制剂为苯并三唑、咪唑和/或吡唑，优选苯并三哗。所述一元羧酸优选乙酸，所述二元羧酸优选草酸、丁二酸和/或酒石酸，所述的多元羧酸优选柠檬酸、环己二胺四乙酸、二乙三胺五乙酸、乙二胺四乙酸和/或丹宁酸，所述的盐优选铵盐、钾盐和/或钠盐。

本品的化学机械抛光液优选还应包括氧化剂。该氧化剂可为现有技术中的任何氧化剂，优选过氧化氢、硝酸铁、有机过氧化物和/或无机过氧化物。

本品的化学机械抛光液还应包括表面活性剂和/或络合剂。该表面活性剂优选脂肪醇聚氧乙烯醚、聚乙烯醇、聚氧乙烯烷基胺和/或烷基醇酰胺。该络合剂优选含磷酸基、羟氨基、铵盐和/或氨基的化合物。

本品的化学机械抛光液还可以包括分散剂、催化剂和pH调节剂中的一种或几种。

产品应用

本品主要应用于抛光铝薄膜，也可以抛光下列金属薄膜材料；铜、钽、氮化钽、钛、氧化钛、银、金、钌等。

产品特性

本品的化学机械抛光液可以明显降低缺陷率，提高金属表面平坦化水平，显著地降低金属的抛光速率，优化了电介质的抛光速率，扩大工艺参数窗口。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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