​化学机械抛光液（16）

化学机械抛光液（16），因为稳定性高、耐存储、寿命长，所以被广泛应用于工业行业，今日，专家来科普化学机械抛光液（16）的配方知识。

制备方法

将各组分简单混合均匀，之后采用氢氧化钾、氨水和硝酸调节至合适的pH值，即可制得抛光液。

原料配伍

本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒0.1～20、有机膦酸0.01~5、聚羧酸类化合物0.01～5、低级脂肪醇0.1～20、糖类化合物0.01～15、水加至100。

所述的研磨颗粒可选自本领域中常用研磨颗粒，如二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈、二氧化钛、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅或高分子聚合物颗粒，较佳的为二氧化硅。

所述的有机膦酸优选自羟基亚乙基二膦酸(HEDP)、氨基三亚甲基膦酸(ATMP)、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、多元醇膦酸酯(PAPE)、2-膦酸丁烷基-1，2，4-三羧酸(PBTCA)、2-羟基膦酰基乙酸(HPAA)和多氨基多醚基四亚甲基膦酸(PAPEMP)中的一种或多种。

所述的聚羧酸类化合物包括均聚物和共聚物，也包括聚羧酸类化合物的盐，较佳的为钠盐或铵盐，优选聚丙烯酸及其盐、聚马来酸、聚环氧琥珀酸、聚氨基酸(如聚天冬氨酸)、水解聚马来酸(HPMA)、聚环氧琥珀酸、马来酸酐-丙烯酸共聚物、丙烯酸-有机膦-磺酸盐共聚物、膦酸基羧酸共聚物(PCA)中的一种或多种。

所述的低级脂肪醇包括一元醇和多元醇，较佳的为C₁~C₄的低级脂肪醇优选乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、乙二醇和丙三醇中的一种或多种。

所述的糖类化合物包括单糖、寡糖和多糖，较佳的为单糖及其衍生糖，以及寡糖及其衍生糖，更佳的为葡萄糖、葡萄糖酸、果糖、甘露糖和麦芽糖中的一种或多种。

本品的化学机械抛光液还可含有本领域常用的其他添加剂，如氧化剂、成膜剂、络合剂和杀菌剂等。化学机械抛光液的pH值较佳的为1~7，更佳的为2～5，最佳的为2.5～4.5。

产品应用

本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性

本品的抛光液中，研磨颗粒的粒径随时间的延长，会逐渐减小且分布逐渐均匀。本品的化学机械抛光液具有较高的稳定性、较长的存储时间和使用寿命。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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