化学机械抛光液（26）

本品的化学机械抛光液（26）有效提高钨的去除速率。如使用磷酸盐的非金属盐和高碘酸的非金属盐能降低离子沾污。如使用氨或季铵碱作为pH调节剂，避免了由于高碘酸盐溶解度低，导致使用常规pH调节剂时形成沉淀的现象。下面科普本品的化学机械抛光液（26）的专业配方知识。

制备方法

将各组分简单混合均匀，再用pH调节剂调节至所需的pH值，即得抛光液。

原料配伍

本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒0.1～20、高碘酸和/或其盐0.1～5、磷酸和/或其盐0.1～5、水加至100。

所述的研磨颗粒采用本领域常规使用的研磨颗粒，所述的研磨颗粒较佳地选自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂和Si₃N₄中的一种或多种，较佳的为二氧化硅。研磨颗粒的粒径较佳的为30～120nm。

所述的高碘酸盐可以是高碘酸的金属盐，也可以是非金属盐。在本品一较佳的实施例中，为降低离子沾污，使用高碘酸盐的非金属盐，酸铵或高碘酸季铵盐。所述的季铵盐的氮原子上的取代基较佳的为碳原子数1～4的烷基中的一种或多种；所述的取代基更佳的为甲基、乙基、丙基和丁基中的一种或多种。

所述的磷酸盐可以是金属盐，也可以是非金属盐。在本品一较佳的实施例中，为降低离子沾污，使用磷酸盐的非金属盐，如磷酸铵或磷酸季铵盐。所述的季铵盐的氮原子上的取代基较佳的为碳原子数1～4的烷基中的一种或多种；所述的取代基更佳的为甲基、乙基、丙基和丁基中的一种或多种。

本品的抛光液中同时含有高碘酸和/或其盐与磷酸和/或其盐，能显著提高钨的去除速率。

本品的抛光液由上述成分简单均匀混合，之后采用pH调节剂调节至合适pH值即可制得。所述的pH调节剂较佳的为氨或季铵碱；所述的季铵碱的氮原子上的取代基较佳的为碳原子数1～4的烷基中的一种或多种；所述的取代基更佳的为甲基、乙基、丙基和丁基中的一种或多种；所述的pH调节剂更佳的为氢氧化四甲铵(TMAH)。由于高碘酸盐溶解度的问题，pH值不易调节，例如用KOH调节易生成沉淀。本品用氨或季铵碱作为pH调节剂，有效地解决了这一问题。

本品中的pH调节剂的用量较佳的以将抛光液的pH值调节到1～7为准。本品的化学机械抛光液中还能添加本领域常规添加的辅助性助剂，如表面活性剂、杀菌剂等。辅助性助剂的用量较佳的为0.005～5,更佳的为0.005～1。

本品的化学机械抛光液的pH值为1～7,更佳的为2～5。

产品应用

本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性

本品的抛光液有效提高钨的去除速率。如使用磷酸盐的非金属盐和高碘酸的非金属盐能降低离子沾污。如使用氨或季铵碱作为pH调节剂，避免了由于高碘酸盐溶解度低，导致使用常规pH调节剂时形成沉淀的现象。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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