化学机械抛光液（30）

本品的化学机械抛光液（30），在浓度比较高的时候，我们可以将它做成浓度样品，性能稳定，方便存放和运输，在使用时，按一定比例稀释即可，这样可以降低抛光液的储运以及包装成本。下面，科普化学机械抛光液（30）的专业配方知识。

制备方法

将各组分混合均匀，采用稀硝酸调节至所需的pH值，即可得到抛光液。

原料配伍

本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒1～30、无机盐类物质0.01～10、含氮唑类化合物0.01～2、氧化剂0.01～10、水加至100。

所述研磨颗粒为本领域常用的研磨颗粒，较佳的选自二氧化硅(如二氧化硅溶胶颗粒)、氧化铝、氧化铈和聚合物颗粒中的一种或多种；优选二氧化硅溶胶颗粒；所述的研磨颗粒的粒径较佳的为10～200nm，更佳的为15～200nm,最佳的为30～100nm。

所述的无机盐类物质在本品中是氧化硅(PETEOS)的抛光促进剂，其包括强酸强碱盐、强酸弱碱盐、强碱弱酸盐和弱酸弱碱盐，较佳的选自强酸强碱盐和/或强酸弱碱盐，所述的强酸强碱盐优选氯化钠、氯化钾、氯化钙、硝酸钠、硝酸钾、硝酸钙、硫酸钾和硫酸钠中的一种或多种，所述的强酸弱碱盐优选氯化铵、硝酸铵和硫酸铵中的一种或多种。

所述的含氮唑类化合物是低介电(low-k)材料的抛光促进剂，较佳的为苯并三氮唑和/或甲基苯并三氮唑、吲唑。

所述的无机盐类物质和含氮唑类物质在本品的抛光液中并非简单的相

加，两者具有一定的协同作用。它们都存在时，PETEOS和low-k材料的去除速率均有较大程度的提高，比任何单独一种物质存在的时候效果更好。

所述氧化剂为本领域化学机械抛光液中常规的氧化剂，其较佳的选自过氧化物和/或过硫化物，优选过氧化氢、过氧化钠、过氧化钾、过硫酸钠、过硫酸铵和过氧化苯甲酰中的一种或多种，更佳的为过氧化氢。

本品中，所述的化学机械抛光液的pH值较佳的为1～4,更佳的为2～3。

本品的化学机械抛光液还可含有其他本领域的常规添加剂，如杀菌剂、防霉剂和润滑剂等，但具体的添加剂物质需与本品的抛光液中其他成分相容。

产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性
本品的化学机械抛光液可以在低应力下(0.8～1.5psi)进行抛光。

本品的化学机械抛光液可以有较低的固含量，即研磨颗粒含量，在保持较高的介质材料去除速率的同时，造成的表面污染物数量很低。

本品的化学机械抛光液可以利用无机盐类物质也就是电解质提高PE-TEOS的去除速率，并且可以通过改变无机盐类物质的种类和浓度改变研磨颗粒与介质材料表面的吸附作用，从而调节PETEOS的去除速率。

本品的化学机械抛光液可以用含氮唑类化合物提高low-k材料的去除速率，并且可以通过改变含氮唑类化合物的种类和浓度来调节low-k材料的去除速率。

本品的化学机械抛光液中无机盐类物质和含氮唑类化合物具有一定的协同作用，它们都存在时，PETEOS和low-k材料的去除速率均有较大程度的提高，比任何单独一种物质存在的时候效果更好。

本品的化学机械抛光液可以通过调节氧化剂的浓度改变金属铜的去除速率，而介质材料去除速率变化较小，这样就可以改变他们的选择比从而达到工艺要求的表面形貌。用本品的抛光液抛光后的材料表面光洁，平坦度较高。

本品的化学机械抛光液的浓度较高时可以做成性能稳定的浓缩样，易于存储和运输，在使用时按一定比例稀释即可，这样可以降低抛光液的储运以及包装成本。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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