化学机械抛光液（38）

本品的化学机械抛光液（38）中，研磨颗粒的粒径随时间延长的增长率低。同时具有较高的稳定性、较长的存储时间和使用寿命。下面，专家给大家科普本品的化学机械抛光液（38）的专业配方知识。

       制备方法
将各组分混合均匀，采用氢氧化钾、氨水和硝酸调节至合适的pH值即可。

原料配伍
本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒0.1～20、带有环状结构的含氮化合物0.01～5、水加至100。

所述的研磨颗粒可选自本领域中常用的研磨颗粒，如二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈、二氧化钛、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅或高分子聚合物颗粒(如聚甲基丙烯酸甲酯),较佳的为二氧化硅。所述的研磨颗粒的粒径较佳的为20～150nm,更佳的为30～120nm。

所述的带有环状结构的含氮化合物为1-氨基环丙烷羧酸、氮杂环丁烷-2-羧酸、2-(环己氨基)乙烷磺酸、1,2-环己二胺四乙酸、3-吡啶羧酸、2-氨基苯磺酸、3-(环已胺)-1-丙磺酸、1-氨基-1-环戊烷羧酸、吡咯-3-羧酸、咪唑-2-甲酸、吡嗪-2,3-二羧酸、吡唑-3-甲酸、2-甲酸吡嗪或对氨基苯磺酸。

本品的化学机械抛光液还可含有本领域常用的其他添加剂，如氧化剂、成膜剂、络合剂、表面活性剂等。

本品中，所述的化学机械抛光液的pH值较佳的为2～7,更佳的为3～5。

产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。
      产品特性
本品的抛光液中，研磨颗粒的粒径随时间延长的增长率低。本品的化学机械抛光液具有较高的稳定性、较长的存储时间和使用寿命。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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