化学机械抛光液(37)

本品的化学机械抛光液(37)，在抛光的过程中，不会让整体金属腐蚀，无衬底表面缺陷、划伤、沾污和其他残留污染物，使得产品良好率高。下面跟着专家学习一下，本品的化学机械抛光液(37)的专业配方知识。

        制备方法
将各组分混合均匀，最后用pH调节剂(20%KOH或稀HNO₃,根据pH值的需要进行选择)调节到所需的pH值，继续搅拌至均匀流体，放置30min即可得到抛光液。

原料配伍
本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒0.05～15、有机酸0.01～5、氧化剂0.01～10、核酸类化合物0.01～5、去离子水加至100。

所述的研磨颗粒可选自本领域常用研磨颗粒，优选二氧化硅、氧化铝、氧化铈和聚合物颗粒(如聚乙烯或聚四氟乙烯)中的一种或多种，更优选氧化硅。所述的研磨颗粒的粒径较佳的为20～200nm,更佳的为30～100nm。

所述的有机酸类化合物较佳的选自氨基酸、有机膦酸、多元羧酸和有机磺酸中的一种或多种。其中，所述的氨基酸较佳的为甘氨酸、丙氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、缬氨酸、胱氨酸、半胱氨酸、甲硫氨酸、苏氨酸、丝氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、脯氨酸、羟脯氨酸、谷氨酸、天门冬氨酸、赖氨酸和精氨酸中的一种或多种。其中，所述的有机膦酸较佳的为羟基亚乙基二膦酸(HEDP)、氨基三亚甲基膦酸(ATMP)、2-羟基膦酰基乙酸(HPAA)、多氨基多醚基四亚甲基膦酸(PAPEMP)、乙二胺四甲基膦酸(EDTMP)、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸(DTPMP)和多元醇膦酸酯(PAPE)中的一种或多种。其中，所述的多元羧酸较佳的为柠檬酸、草酸、酒石酸、琥珀酸、马来酸以及上述化合物的水溶性盐中的一种或多种。其中，所述的有机磺酸为甲基磺酸、乙基磺酸、二甲基磺酸、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、丁基磺酸内酯以及上述化合物的水溶性盐中的一种或多种。所述的水溶性盐较常见的为钾盐、钠盐或铵盐。

所述的氧化剂可为现有技术中的各种氧化剂，较佳的为过氧化氢、过氧化氢脲、过氧乙酸、过氧化苯甲酰、过硫酸钾和过硫酸铵中的一种或多种，更佳的为过氧化氢。

核酸类化合物较佳的为腺嘌呤、鸟嘌呤、胞嘧啶、胸腺嘧啶和尿嘧啶中的一种或多种。

化学机械抛光液的pH值较佳的为2.0～11.0,更佳的为3.0～7.0或9.0～11.0。

pH调节剂可为各种酸和/或碱，以将pH值调节至所需值即可，较佳的为硫酸、硝酸、磷酸、氨水、氢氧化钾、乙醇胺和/或三乙醇胺等。

本品的化学机械抛光液还可以含有本领域其他常规添加剂，如表面活性剂、稳定剂、杀菌剂以及含氮唑类化合物等，如苯并三氮唑、5-氨基四氮唑、5-甲基四氮唑、5-苯基-1H-四氮唑和/或1H-四氮唑等，以进一步提高抛光液的抛光性能。

产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性
本品的化学机械抛光液在金属抛光过程中基本不产生局部和整体腐蚀，基本无衬底表面缺陷、划伤、沾污和其他残留污染物，使得产品良好率高；具有较高的铜的去除速率，以及较高的铜/钽的去除速率选择比，可满足铜制品的抛光要求；在较低的研磨颗粒的用量下，仍可获得上述效果。本品的抛光液中含有可生物降解的核酸类化合物，使本品的抛光液对环境更友好。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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