本品化学机械抛光液（40），有效提高了氮化硅的抛光速率，减少了抛光时间，提高了生产效率，降低了制造成本。下面专家来科普，本品化学机械抛光液（40）配方知识点。
制备方法
将各组分混合到去离子水中，用酸性pH调节剂(如HNO₃)调节到所需的pH值，即可得到抛光液。
原料配伍
本品各组分质量份配比范围为：二氧化硅研磨颗粒0.1~50、冠醚0.1~10、去离子水加至100。
二氧化硅研磨颗粒为气相二氧化硅和/或胶体二氧化硅。冠醚包括12-冠-4、15-冠-5、18-冠-6、二苯-18-冠-6和二氮-18-冠-6,优选18-冠-6。pH值优选1~4。
本品还可以进一步包含其他常规添加剂，如加入络合剂进一步提高其他非金属的抛光速率；加入表面活性剂用于改善晶圆表面的清洗等。
产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。
产品特性本品显著提升氮化硅的抛光速率。由于冠醚本身不是电解质，不含金属离子，因此不会造成对半导体器件的离子污染。此外，由于对氮化硅抛光速率的提高，减少了抛光时间，提高了生产效率，降低了制造成本。由于抛光速率的提高，还可以相对降低抛光液中化学品的用量，从而进一步减少环境污染。
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