本品化学机械抛光液（41）采用新型的配方，很好地协调各种材料，提高了氧化物(Oxide)的去除速率，拥有较好的抛光效果。下面专家给大家科普化学机械抛光液（41）的配方知识。
制备方法
将各组分混合到去离子水中，用碱性pH调节剂(KOH)调节到所需的pH值，即可得到抛光液。
原料配伍
本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒0.1～50、次磷酸(盐)0.1～5、表面活性剂(50～500)×10-⁶、水加至100。
研磨颗粒选自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂和Si₃N₄中的一种或多种。次亚磷酸(H₃PO₂)或其盐包括金属盐、铵盐季铵盐，优选金属钾盐。表面活性剂包括阳离子型表面活性剂、阴离子表面活性剂以及非离子型表面活性剂，优选非离子型表面活性剂，该非离子型表面活性剂优选聚乙二醇(PEG400),平均分子量为380～420。
在本品中，化学机械抛光液为碱性，pH值为9～14,较佳的pH值为10～12。
产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。
产品特性
本品采用全新的配方，各组分之间能更好地协调，对氧化物(Oxide)的去除速率具有更高的提升作用，并且抛光效果也更好。由于抛光速率的提高，减少了抛光时间，提高了生产效率，降低了制造成本。同时，由于抛光速率的提高，可以相对降低抛光液中化学品的用量，继而进一步减少环境污染。
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