本品化学机械抛光液（44），可以有效地去除氮化硅材料，提供氮化硅材料对氧化硅材 料的去除速率的选择性，减少在基底表面上形成的氧化物线的缺陷。下面专家来科普，化学机械抛光液（44）的专业配方知识。
制备方法
将各组分简单混合后，采用化钾、氨水和硝酸调节至合适的 pH 值，即可制得抛光液。
原料配伍
本品各组分质量份配比范围为:料颗粒1~20、季铵化合物 0.01~0.2、氮化硅抛光加速剂 0.001~0.2、水加至 100。所述研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈或掺杂铝的二氧化硅颗粒。研磨颗粒粒径为20～150nm。
所述季铵化合物为四甲基氢氧化铵和/或四丁基氢氧化铵。
所述氮化硅抛光加速剂为阴离子型表面活性剂，例如十二烷基苯磺酸、 十二烷基苯磺酸钠、亚甲基双萘磺酸钠、烷基磷酸酯二乙醇胺盐、烷基磷酸 酯三乙醇胺盐、多元醇磷酸酯、甘油聚氧丙烯醚磷酸酯三乙醇胺盐、丙烯酸- 2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸共聚物、聚丙烯酸和阴离子聚丙烯酰胺等。
本品中，聚丙烯酸的分子量为2000～5000,阴离子聚丙烯酰胺的分 子量为500万～1200万。
抛光液的 pH 值为2～7,较佳的为2～4。
产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。
产品特性
本品有效地去除氮化硅材料；提供氮化硅材料对氧化硅材 料的去除速率的选择性；减少在基底表面上形成的氧化物线的缺陷。
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