本品化学机械抛光液（46），去除速率的可调性较强，适用范围较广，适用于二氧化硅介质材料的抛光，浅沟槽隔离的化学机械抛光等，应用于130nm以下工艺流程。下面专家来科普，本品化学机械抛光液（46）配方知识点。
制备方法
将各组分混合均匀即可。
原料配伍
本品各组分质量份配比范围为：磨料10～20、二氧化硅抛光促进剂适量、pH调节剂调pH值为9～12、分散稳定剂0.4～0.6。
磨料为选自二氧化硅溶胶、金属掺杂的二氧化硅、气相法二氧化硅及其水分散体、氧化铝、改性氧化铝、氧化铈和高聚物颗粒中的一种或多种。较佳的为二氧化硅溶胶颗粒和/或气相法二氧化硅。磨料的颗粒粒径为20～250nm。较佳的为80～200nm。
二氧化硅抛光促进剂为阴离子型聚丙烯酰胺和/或聚丙烯酸与聚丙烯酰胺的共聚物，分子量为500万～2000万。
本品中二氧化硅的抛光促进剂还可为无机盐，该无机盐为选自强酸弱碱盐、强碱弱酸盐、弱酸弱碱盐和强酸强碱盐中的一种或多种。
本品的抛光液还包含杀菌剂和/或防霉剂。抛光液的pH值为9～12。较佳的为10.5～11.5。
产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。
产品特性
本品的抛光液为浓缩型硅基磨料抛光液，固含量均较目前市售产品低，且具有较好的抛光均一性和表面污染物指标，此外去除速率的可调性较强，适用范围较广，适用于二氧化硅介质材料的抛光，浅沟槽隔离的化学机械抛光等，应用于130nm以下工艺流程。
Copyright © 2021 深圳市恒享表面处理技术有限公司 All Rights Reserved 备案号：粤ICP备09192382号 技术支持：易百讯 - 深圳网站建设
