本品化学机械抛光液（52），可以明显的提高碱性条件下铜的抛光速率，且硅和铜的抛光速率也随着显著地提高。下面专家来科普本品化学机械抛光液（52）的配方知识。
制备方法
将各组分在去离子水中混合均匀，用pH调节剂调到所需的 pH 值，即为抛光液。
原料配伍本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒2～25、氧化剂1~3、多羟基化合物1～2、有机碱1～10、去离子水加至100。
所述的研磨颗粒选自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂和/或Si₃N₄中的一种或多种，较佳的为SiO₂。
所述的氧化剂选自高氯酸盐、硝酸盐、碘酸盐、单过硫酸盐和/或3-硝基苯磺酸盐中的一种或多种。所述的碘酸盐为钾盐，所述的硝酸盐为硝酸铵盐和/或钾盐。
所述的多羟基化合物为糖类。所述的糖类为葡萄糖和/或乳糖，所述的有机碱为有机胺和/或季铵碱，所述的有机胺为乙二胺和/或哌嗪，所述的季铵碱为四甲基氢氧化铵。
本品中，含有pH调节剂。本品的化学机械抛光液的pH值为10.0～12.0。
产品应用
本品主要用作化学机械抛光液。
产品特性
本品显著提高了在碱性条件下的铜的抛光速率，使得在碱性抛光条件下，硅和铜的抛光速率同时被显著地提高。
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