化学机械抛光液（53）

本品化学机械抛光液（53）可在使用抛光垫清洗液后，仍拥有比较高的抛光速率。下面专家来科普本品化学机械抛光液（53）的专业配方知识。

制备方法   

将除氧化剂以外的其他组分混合均匀，用KOH或HNO₃

调节到所需的pH值，使用前加氧化剂，混合均匀即可。

原料配伍 

本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒0.1～5、腐蚀抑制剂0.0005～5、至少两种络合剂0.01～12、氧化剂0.01～10、水加至100。

所述的研磨颗粒选自二氧化硅、三氧化二铝、掺杂铝的二氧化硅、覆 盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和/或高分子研磨颗粒中的一种或 多种。所述的研磨颗粒的粒径为20～150nm。

所述的腐蚀抑制剂选自氮唑、咪唑、噻唑、吡啶和/或嘧啶类化合物 中的一种或多种。

其中，所述的氮唑类化合物选自苯并三氮唑、5-甲基-1,2,3-苯并三氮唑、 5-羧基苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4-三氮唑、 4-氨基-1,2,4-三氮唑、3,5-二氨基-1,2,4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1,2,4-三氮  唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑、5-苯基  四氮唑、5-氨基-1H-四氮唑和/或1-苯基-5-巯基四氮唑中的一种或多种。

其中，所述的咪唑类化合物为苯并咪唑和/或2-巯基苯并咪唑。

其中，所述的噻唑类化合物选自2-巯基苯并噻唑、2-巯基噻二唑和/ 或5-氨基-2-巯基-1,3,4-噻二唑中的一种或多种。

其中，所述的吡啶选自2,3-二氨基吡啶、2-氨基吡啶和/或2-吡啶甲 酸中的一种或多种。嘧啶为2-氨基嘧啶。

所述的两种络合剂为含氨基的化合物及其盐和有机酸及其盐。所述的 盐选自钾盐、钠盐和/或铵盐中的一种或多种。含氨基的化合物为氨基酸 和/或多胺。

氨基酸选自甘氨酸、丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、 蛋氨酸、苏氨酸、酪氨酸、色氨酸、赖氨酸、精氨酸、组氨酸、丝氨酸、

天冬氨酸、谷氨酸、天冬酰胺和/或谷氨酰胺中的一种或多种。

多胺选自乙二胺、二亚乙基三胺、五甲基二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺和/或多亚乙基多胺中的一种或多种。

有机酸为有机羧酸和/或有机膦酸。

有机羧酸选自醋酸、草酸、柠檬酸、酒石酸、丙二酸、丁二酸、苹果酸、乳酸、马来酸、没食子酸和/或磺基水杨酸中的一种或多种。

有机膦酸选自2-膦酸丁烷基-1,2,4-三羧酸、氨基三亚甲基膦酸、羟基亚乙基二膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、2-羟基膦酸基乙酸和/或多氨基多醚基亚甲基膦酸中的一种或多种。

氧化剂选自过氧化氢、过氧化脲、过氧甲酸、过氧乙酸、过硫酸盐、过碳酸盐、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高锰酸钾和/或硝酸铁中的一种或多种。

本品抛光液，pH值为4～11,较佳的为5～8。

本品的抛光液中，还可以含有本领域其他常规添加剂，如pH调节剂、黏度调节剂、消泡剂和/或杀菌剂中的一种或多种。

产品应用本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性本品可在使用抛光垫清洗液后仍保持较高的抛光速率。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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