本品碱性硅晶片抛光液的流动性比较好，可以提高质量传输的一致性，还可以将表面的粗糙程度降低，下面专家来科普本品碱性硅晶片抛光液的配方专业知识。
制备方法
取磨料，在搅拌条件下加入螯合剂。再加入pH调节剂加入活性剂，再加入去离子水，搅拌充分后即制得本品抛光液。
原料配伍
本品各组分质量份配比范围为，磨料10～50，螯合剂0.1~1，pH调节剂1~6，表面活性剂0.01~0.6、去离子水44~89。
磨料是粒径为15~150nm的水溶硅溶胶和金属氧化物的水溶胶。质述的水溶硅溶胶是SiO2，金属氧化物的水溶胶是Al2O3，CeO2或Tio2
螯合剂是具有水溶性和不含金属离子的EDTA、EDTA二钠、羟胺、胺盐或胺。pH调节剂是氢氧化钠、氧氧化钾、多羟基多胺和胺中的一种或两种以上组合。表面活性剂是非离子型表面活性剂，非离子型表面活性剂是脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基醇酰胺或FA/O活性剂。
产晶应用
本品主要用作抛光液。
产品特性
本品的抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗。硅抛光速率快，平整性好，表面质量好。使用不含金属离子的螯合剂，对有害金属离子的整合作用增强。采用非离子型表面活性剂，能对磨料和反应产物产生从衬底表面有效的吸脱作用，使抛光后的清洗更加容易。对环境无污染。抛光液具有良好的流动性，提高质量传输的一致性，降低表面的粗糙度。工艺简单，成本低，降低了销售价格，具有良好的商业开发前景。
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