钽化学机械抛光液

本品钽化学机械抛光液，选用碱性抛光液，对设备无腐蚀，此外，基片材料的两重性，在pH值9以上时，易生成可溶性的化合物，易脱离表面，下面专家来科普本品钽化学机械抛光液的专业配方知识。

制备方法

清洗容器和管道，采用18MΩ以上的超纯去离子水清: 反应器、管道和器具三遍，操作工人身体及手套，口罩及服装进行超净 (净化级别：1000级》处理。

将碱性pH 调节剂用18MΩ以上超纯去离子水稀释后逐渐加入反应器内的抛光液中，采用负压涡流法进行气体搅拌，其加入量为直至抛光液达 到 pH 值9~12即可。

将FA/OI型表面活性剂逐渐加入处于负压涡流状态下的反应器内的抛光液中。

在反应器内的抛光液中逐渐加入粒径15~100nm 的纳米级硅溶胶 (含量为40%~50%),使其在负压下保持涡流状态进行气体搅拌直至硅溶胶制成SiO2,水溶液的钽抛光液。

原料配伍 
       本品各组分质量份配比范国为，碱性pH 调节剂0 . 5~ 0.6.18MΩ以上超纯去离子水5~6.2、,FA/0I  型表面括性剂0.3~0.4 、粒径15~100nm 的纳米级硅溶胶3~4

反应器的材料为聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯制成。FA/01   型表面性剂为市售商品，由天津品岭微电子材料有限公司生产销售。

所述碱性 pH 调节刺可以是三乙醇酸、乙二胺等有机碱。 
       产品应用 
       本品主要应用于钽化学机械抛光。

产品特性 
       选用碱性抛光液对设备无腐蚀，硅溶胶稳定性好，解决了 酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端，利用基片材料的两重性，pH值9以上时，易生成可溶性的化合物，从而易脱离表面，采用负压涡流法进行气体搅拌可避免有机物，金属离子，大颗粒等有害污染物的引入，使溶液金属离子含量降假两个数量级：可使纳米硅溶胶在负压下呈涡流状态防止层液区硅溶胶的凝聚或溶解而无法使用；也避免碱性pH调节剂由于局部pH值过高而导致凝聚，无法使用。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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