铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液

本品铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液因以粒径较大的水溶性二氧化硅溶胶为磨料，让磨料的分散性能提高，又减少抛光后铜表面平坦度，下面专家来科普本品铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液的专业配方知识。

制备方法 先将二氧化硅粉末均匀路解于去离子水中，然后在千级干净化室的环境内，常温条件下，在0.1MPa真空负压动力下，通过质量流量计将气相二氧化硅粉末水溶液输入容器罐中，与预先放置在容器罐中的水 溶性二氧化硅溶胶混合并充分搅拌，待混合均匀后将其余组分加入容器罐 中并继续充分搅拌，混合均匀即成为本品抛光液成品

原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：水溶性二氧化硅溶胶 10~40、纳米二氧化硅粉末5～15、表面活性剂5~20,络合剂0.01~ 0.6、pH 调节剂1~6、去离子水加至100.

水溶性二氧化硅溶胶是粒径为0~200nm 的水溶性二氧化硅溶胶，优 选10~80nm, 本品选用粒径为10~30nm.

纳米二氧化硅粉末是粒径为15~200nm 的气相二氧化硅粉末，优选 为20~80nm, 本品选用粒径为30~60nm.

表面活性剂为非离子型表面活性剂，该非离子型表面活性剂为脂肪醇 聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所述脂肪醇聚氧乙烯醚是聚合度为20的脂肪 醇聚氧乙烯醚(0~20)、聚合度为25的脂肪醇聚氧乙烯醚(0~25)或聚 合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚(0~40);所述烷基醇酰胺是月桂酰单乙 醇胺；本品选用聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚(0~20)或者月桂酰单 乙醇胺。

pH 调节剂为无机碱、有机碱或它们的组合：该无机碱为氢氧化钾、 氢氧化钠，本品选用氢氧化钾；该有机碱为多羟基多胺和胺中的一种或它  们的混合，多羟基多胺为三乙醇胺、四羟基乙二胺或六羟基丙基丙二胺  胺为乙二胺、四甲基氢氧化铵，本品选用四甲基氢氧化铵

本品铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，选用的磨料为粒径较大  的水溶性二氧化硅溶胶，其具有较好的分散性，粒度分布均匀，能够有效  控制铜抛光中的高低速率比，同时能够有效提高抛光速率，提高生产效  率；选用的表面活性剂为非离子型表面活性剂。如脂肪醇聚氧乙烯腱或烷  基醇酰胺，该非离子型表面活性剂的加入能够有效控制加工过程中抛光的  均匀性，减少表面缺陷，并提高抛光效率；该抛光液中加入pH 调节剂能 够保证抛光液的稳定性，减少对设备的腐蚀，也能起到提高抛光速率的作 用；加人络合剂能有效地将铜离子生成络合物，减小铜离子的污染。

产品应用 本品主要应用于铜的表面抛光加工中，抛光速率快，抛光液不腐蚀设备，使用的安全性能高。

产品特性 本品以粒径较大的水溶性二氧化硅溶胶作为磨料，既提高了磨料的分散性能，减少抛光后铜表面平坦度，而且可以大大提高抛光速率;再者，本品的抛光液为碱性，化学稳定性好，不腐蚀设备，使用的安全性能理想。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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