本品钨抛光液（2）是碱性，不会腐蚀设备，便于清洗，抛光速度快，效果好。下面专家来科普本品钨抛光液（2）的专业配方知识。
制备方法 首先将制备抛光液的磨料、氧化剂、pH 调节剂、螯合剂 和去离子水，分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各 种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌， 混合均匀即可。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：磨料10～50、氧化剂0.01～6 、pH调节剂1～6、螯合剂0.01～1、去离子水37～88.98。
磨料是粒径为15～100nm 的水溶硅溶胶或金属氧化物水溶胶。金属 氧化物的水溶胶是SiO₂、Al ₂O₃、CeO₂ 或 TiO₂ 的水溶胶。氧化剂是双氧 水、硝酸盐或过硫酸盐。pH 调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟基多 胺和胺中的一种或两种以上组合。螯合剂是具有水溶性且不含金属离子的 化合物，如羟胺、胺盐或胺中的一种或两种以上组合。
产品应用 本品主要用作抛光液。
产品特性 抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗。金属层钨抛 光速率快，可控性好，抛光后平整性好。使用不含金属离子的螯合剂，对 有害金属离子的螯合作用强，工艺简单，成本低。
本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著 李东光
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