本品集成电路铜互连结构中铜的电化学机械抛光液，抑制剂为尿酸作，柠檬酸和乳酸为酸，解决了环境污染问题，同时可在低于0.5psi 压力下进行抛光，降低了抛光压力。下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 将上述各组分按照比例进行混合、搅拌使各种物质在水中 完全溶解，然后用KOH 调节到所需要的 pH 值即可。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：酸1～10、钾盐0.5～1、 抑制剂0.01～0.1、络合剂0.1～2、表面活性剂0.01～0.1、分散剂0.01~ 0.1 、pH调节剂1～5、水加至100。
酸是柠檬酸或乳酸。钾盐是柠檬酸钾或乳酸钾。抑制剂是尿酸。络合 剂是甘氨酸或氨水或EDTA。表面活性剂是十二烷基硫酸铵、十二烷基苯 磺酸铵、TX-10 、NP-5 、NP-9中的一种。分散剂是聚乙烯醇、聚丙烯酸、 聚丙烯酸铵和聚环氧乙烷中的一种。
用pH 调节剂KOH 将抛光液的pH 值调节至4.5～6.0。
产品应用 本品主要应用于集成电路铜互连结构中铜的电化学机械 抛光。
产品特性 该抛光液可以使用传统的化学机械抛光机，仅需要在抛光 垫下方加一个导电电极，抛光垫开槽，抛光时不断加抛光液，使槽内充满 抛光液。被抛光的铜与直流电源正极相连，抛光垫下方的导电电极与直流 电源负极相连。本抛光液可以在低于0.5psi 压力下进行抛光，大大地降 低了抛光压力。
本品中使用尿酸作为抑制剂，柠檬酸和乳酸作为酸，可以减小对环境的污染。
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