碱性计算机硬盘抛光液

本品碱性计算机硬盘抛光液，碱性为抛光介质，抛光机理大大降低了对硬盘边缘的抛光损失，不易腐蚀。下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。

方法一：在液态水中加入氧化剂、有机络合剂和研磨剂搅拌均匀，调pH 值至7～10，即制成。

方法二：先在液态水中加入有机络合剂和研磨剂，搅拌均匀，调 pH 值至7～10，然后在使用前，再加入氧化剂，搅拌均匀。

原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：氧化剂0.1～5、有机络 合剂0.1～5、研磨剂组分A为0.1～20、研磨剂组分B 为0. 1～20、表面 活性剂0～1。

氧化剂可以为硝酸铁、锰酸盐、超锰酸盐、铬酸盐、超铬酸盐、氯酸盐、超氯酸盐、碘酸盐、超碘酸盐、过氧硫酸盐、过氧硼酸盐、过氧醋 酸、过氧异丁酸中的一种或两种以上。

有机络合剂可以为有机胺、有机酸、氨基酸、有机磷、有机硫酸盐、 磺酸盐中的至少任意一种或多种。

研磨剂组分A 为晶型氧化铝或氧化铈或晶型氧化铝和氧化铈。研磨 剂组分B为氧化硅、氧化钛、氧化锆、金刚石、膨润土、碳纤维、膨胀石 墨中的至少任意一种。

表面活性剂，也是金属络合成膜剂，可以为磺酸盐、铵盐、磷酸盐表 面活性剂、环氧醚酯表面活性剂中的一种或两种以上。

产品应用 本品可用于金属表面的抛光，包括镍、铜、铝、钨、金、 铂等，以及金属合金的表面抛光。

产品特性 本品研磨剂由维氏硬度>7的组分A 和维氏硬度<5的组 分 B组成。形成的中性及碱性介质中的氧化剂、有机金属络合剂、高硬度 及低硬度混合组成的摩擦剂，采用硬软兼并的多种抛光摩擦颗粒的方法来 降低大颗粒刚玉氧化铝所造成的严重划伤以及提高平化效率。本品采用碱 性抛光介质，其崭新的抛光机理大大降低了对硬盘边缘的抛光损失。而且 对抛光机没有任何腐蚀效应，增加了抛光机的寿命。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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