本品介电层抛光液，改善了晶片表面的物理和化学性能，并通过纯化，避免对晶片的污染进而影响后期器件的性能。下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 在水中加入表面活性剂，搅拌均匀，先加入pH调节剂， 缓慢加入二氧化硅，搅拌经过静置，等溶液稳定后，再加入螯合剂、铵 盐，混合搅拌均匀，所配的抛光液的pH 值范围在10.5～11，Na 离子含 量范围<0 .07%，黏度小于5mPa· s。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：二氧化硅磨料2～50、pH 调节剂0.2～10、螯合剂0.1～5、铵盐0.1～5、表面活性剂0.01～5、水 加 至 1 0 0 。
所述的pH 调节剂为碱性有机胺，如三乙胺和二异丁基胺中至少一 种，不含金属离子而且不具有臭味。用来调节抛光液的pH 值，使二氧化 硅处于良好的悬浮状态，提供稳定的抛光速率。采用的胺不含金属类成 分，避免对硅片的沾污而影响以后的器件的性能。
所述的螯合剂为乙二胺四乙酸和柠檬酸及其盐中的至少一种。可以和 前制程带入的大量金属离子结合而除去，从而改善抛光片的质量。
所述的表面活性剂为醇醚类非离子类表面活性剂，如OP-10、TX-10 等，可以优先吸附，形成长期易清洗的物理吸附表面，以改善表面状态， 同时提高质量传递速率，以降低晶圆的表面粗糙度。
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