蓝宝石衬底抛光液（1）

本品蓝宝石衬底抛光液能够快速的与待加工材料进行反应，起到增强化学作用的目的，且在抛光过程中，能高速率高平整低损伤抛光、对基片损伤度小、易清洗，下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。

制备方法将粒径15～40nm的磨料用不同倍数的去离子水稀释，去离子水含量0～60%。用pH调节剂调整pH值，使其pH值控制在11～13.5范围内。在调整完pH值后，边搅拌边加入0.5%～10%的醚醇类活性剂，制成抛光液。

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：硅溶胶40～3600、KOH20～40、乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)90～520、醚醇类活性剂10～400、去离子水280～3000。

所述硅溶胶是粒径15～40nm的SiO₂溶胶，其含量为1%～50%。

所述的碱性调节剂为KOH和胺碱，KOH和胺碱的比例为1:(1～15);所述的胺碱是多羟基多胺类有机碱，为乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)。

所述的醚醇类活性剂是非离子活性剂，如FA/O表面活性剂、Oπ-7[(C₁₀H₂₁—C₆H₄—O—CH₂CH₂O)7,—H]、Oπ-10[(C₁₀H₂₁—C₆H₄—O—CH₂CH₂O)10—H]、O-20[(C12~18H₂5~37—C₆H₄—O—CH₂CH₂O)70—H]、Os-15的一种。

纳米SiO₂溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(15～40nm)、含量高(>40%)、硬度小(对基片损伤度小)、分散度好，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小，解决了Al₂O₃磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端；胺碱作为抛光液pH调节剂，可起到缓冲剂的作用，既可实现高pH值(>13)磨料稳定存在，又可生成大分子产物且溶于水，使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面，同时还能起到络合及螯合作用，实现反应剂一剂多用，降低成本。

KOH作用强碱，能够快速的与待加工材料进行反应，起到增强化学作用的目的。

表面活性剂可降低表面张力，提高凹凸选择比，又能起到渗透和润滑作用，从而有效地提高了交换速率，增强了输运过程，成为高平整高光洁表面。

产品应用本品主要应用于蓝宝石衬底材料抛光。

产品特性选用复合碱，使纳米SiO₂溶胶在高pH值(>13)下仍处于稳定状态。

选用乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)有机碱作为抛光液pH调节剂，可起到缓冲剂、磨料稳定剂的作用，又可生成大分子产物且溶于水，使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面，同时还能起到络合及螯合作用，实现反应剂一剂多用，降低成本。

选用表面活性剂，增加了高低选择比，大大降低了表面张力、减小了损伤层，增强纳米SiO₂溶胶在强碱下的稳定性，提高质量传输速率，增强输运过程，成为高平整高光洁易清洗表面。

本品的碱性抛光液，可对设备无腐蚀，起到钝化作用，硅溶胶稳定性好，解决了酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端；利用基片材料的两性性，pH值11以上时，易生成可溶性的化合物，从而易脱离表面。

选用纳米SiO₂溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(15～40nm)、含量高(40%～50%)、对基片损伤度小(硬度6～7)、分散度好(易清洗),可提高表面一致性，同时起到小搅拌器作用，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小，解决了Al₂O₃磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端。

选用KOH作强碱，能够快速的与待加工材料进行反应，起到增强化学作用的目的。强输运过程，成为高平整高光洁易清洗表面。

本品的碱性抛光液，可对设备无腐蚀，起到钝化作用，硅溶胶稳 定性好，解决了酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端；利用基片材 料的两性性，pH 值11以上时，易生成可溶性的化合物，从而易脱离 表面。

选用纳米SiO₂ 溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(15～40nm) 、含量 高(40%～50%)、对基片损伤度小(硬度6～7)、分散度好(易清洗), 可提高表面一致性，同时起到小搅拌器作用，能够达到高速率高平整低 损伤抛光、污染小，解决了Al₂O₃ 磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多 弊端。

选用KOH 作强碱，能够快速的与待加工材料进行反应，起到增强化 学作用的目的。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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