硬盘磁头的抛光液

本品硬盘磁头的抛光液不仅拥有良好的悬浮稳定性，同时分散均匀性也很优异，不会发生沉积的现象。下面专家来科普本品硬盘磁头的抛光液的专业配方知识。

制备方法

(1)金刚石粉体预处理，将金刚石粉与表面改性剂混合，然后置于去 离子水介质中进行粉碎、除杂和分级，得到金刚石水基悬浮浆料

(2)金刚石从水相转移至油相：向步骤(1)得到的金刚石水基悬浮酱料中加入一定量的所述相转移溶剂，经过相转移使所述金刚石粉从去离子水相体系转移至相转移溶剂体系中，然后对该相转移溶削体系进行机械搅拌，超声分散或前切分散。

(3)颗粒分级，采用沉降分级或离心分级法去降步骤(2)中所得相转移溶剂体举中的细颗粒和粗颗粒，得到含金刚石磨粒的悬浮体系，使得所得金刚石磨粒的粒度分布处于20～300nm范围内的一个区间。该悬浮体系中金刚石磨粒的含量为1%~90%。

(4)油相分散，将步醒(3)得到的含金刚石磨粒的悬浮体系转移至所述质量的烃类溶剂中，并添加所述的油相介质调整刺、分散州和缓蚀剂，然后进行搅拌，超声分散均匀，制得硬盘磁头的抛光液

原料配伍本品各组分质量份配比范围为，金刚石磨料0.05～6、分散剂0.03～4、缓蚀剂0.01～1、相转移剂0.02～8，油相介质调整制0.01～10，经类溶剂80～189.3.

所述金刚石磨粒的平均粒径为30～150nm，颗粒粒度分布为20～300nm、颗粒长径比为1.0～2.0。

所述分散剂优选为油酸、硬脂酸、石油磺酸钠、十八胺、油酸十八烷胺、EFKA系列分散剂(荷兰EFKA化学公司生产)、丙烯酸-苯乙烯-丙烯酸丁醋共聚物、Solsperse系列超分散剂(英国ICI公司生产)，Hyperl系列超分散剂(丹发KVK公司生产)中的一种或多种的组合。

所述缓蚀剂优选为苯并三氮唑、甲基苯并三氮喹，蔬基苯并噻唑、脂防胺(C12-C18)聚氧乙烯醚、单油酸季戊四醇酯、山梨糖醇酐单油酸醒，硬脂酸环己胺中的一种或多种的组合。

所述相转移溶剂优选为异丙醇、乙二醇，丙酮、乙酬、乙醇，石油醚，正辛烷中的一种或者多种的组合

所述油相介质调整剂优选为石油醚、液状石蜡、正壬烷、正辛烷，正庚烷，正己烷，正戊烷、醋酸乙酯中的一种或多种的组合

所述的烃类溶剂优选为C5~C12的白油(白矿油或溶剂油)。所述白油(白矿油或溶剂油)符合国家工业用白油标准及低黏度工业白油质量标准所述白油的牌号为2号～10号，该牌号按照油品在40℃时的运动黏度划分，黏度划分符合1SO标准的黏度等级，所述白油的运动黏度为1~Itmm/s(40℃)。

所述硬盘磁头的抛光液的制备方法，所述金刚石粉体预处理步骤中。

所述金刚石粉为以下①、②两种金刚石粉体中的至少一种：①颗粒平均粒径为30~180nm、粒度分布范围在20~400nm的聚晶金刚石及其聚集体

②颗粒平均粒径为40~200nm、粒度分布范围在20~400nm的静压金刚石及其聚集体。

上述硬盘磁头的抛光液的制备方法，所述金刚石粉体预处理步骤中，所述表面改性剂优选为油酸钠、十二烷基三甲基溴化铵、单宁酸、没食子酸、十二胺、十八胺、C₁₂~C1₈烷基硫酸钠、C₁₂~C₁₈烷基磺酸钠、C₁₂~C₁₈烷基苯磺酸钠、1-氨基-8-萘酚-3，6-二磺酸、硅烷偶联剂、氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、三氯化铁中的一种或者多种的组合。

上述的硬盘磁头的抛光液的制备方法中，为了保证金刚石磨粒的粒度分布、形貌和纯度，在金刚石粉体预处理步骤中进行上述的粉碎、除杂和分级等工艺是很有必要的，其中：所述粉碎工艺优选的粉碎设备为高能球磨机、胶体磨、搅拌磨中的一种；所述除杂工艺优选包括酸处理除杂、磁力分选除杂中的至少一种；所述分级工艺优选包括重力沉降分级、离心分级中的至少一种。

需要特别提及的是，上述本品的制备方法中并不包含加温烘干、冷冻干燥、减压干燥、喷雾干燥等步骤，即本品抛光液的制备过程中不需要经过干燥处理。本品不进行干燥处理的目的是为了防止金刚石粉在干燥过程中发生颗粒再团聚而影响到颗粒的粒度分布或者造成磨粒形貌缺陷。上述本品的制备方法也不含加热混合或加热搅拌步骤，其目的是为了保证金刚石磨粒在介质体系中的粒度分布和分散状态的稳定性。

产品应用 本品适用于形成研磨盘固结磨料微刃和作为游离磨粒抛光，也可以进行微晶玻璃、蓝宝石衬底、硅片、石英基板、碳化硅衬底等材料的超精密表面研磨抛光。

产品特性 本品方法制备得到的抛光液具有良好的悬浮稳定性，金刚石在悬浮体系中分散均匀性好，静置一年也不会发生金刚石颗粒的沉积现象。将本品的抛光液用于硬盘磁头生产厂的磁头抛光工序，表面切削速率大于20nm/min;扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和准

静态测试(QST)等检测结果表明，采用本品抛光液进行加工后的磁头表面质量和性能符合磁头抛光的质量要求，其用于磁头表面超精密抛光时抛光效率高、加工表面质量好，不会发生失效现象。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光

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