本品硬盘基片的抛光液，不仅对害金属离子拥有较强的螯合作用，同时对磨料和反应产物拥有较强的吸脱作用，且抛光效率高、成本低、清洗简单。下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然 后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流 量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：磨料40～750、氧化剂 10～100、螯合剂3～30、pH调节剂4～6、去离子水加至200。
磨料是粒径为15～120nm的水溶硅溶胶或金属氧化物SiO₂ 、Al₂O3
CeO₂ 或 TiO₂ 的水溶胶。氧化剂采用双氧水或硝酸盐。螯合剂具有水溶性 和不含金属离子，可为EDTA 、EDTA二钠、羟胺、胺盐或胺中的一种或 其组合。pH 调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或其组合。
产品应用 本品主要用作抛光液。
产品特性 本品抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗：硬盘基 片抛光速率快，平整性好；使用不含金属离子的螯合剂，对有害金属离子 的螯合作用强；采用非离子型表面活性剂，能对磨料和反应产物从衬底表 面产生有效的吸脱作用；工艺简单，成本低。
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