本品锗晶片的抛光液，抛光速率高、损伤小，对金属离子拥有较强的螯合作用，能快速的将磨料和反应产物去除，下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 首先将制备抛光液的各组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：磨料10～50、表面活性剂0.1～1、pH值调节剂1～5、螯合剂0.1～1、去离子水加至100。
所述磨料是粒径为15～100nm的水溶硅溶胶或金属氧化物SiO₂、Al₂O₃、CeO₂或TiO₂的水溶胶。表面活性剂采用非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺。pH调节剂是指氢氧化钠、氢氧化钾、多羟基多胺和胺中的一种或其组合。螯合剂具有水溶性和不含金属离子，可为EDTA、EDTA二钠、羟胺、胺盐或胺中的一种或其组合。
产品应用 本品主要用作抛光液。
产品特性 本品浓缩度高、抛光速率快，平坦度好；粒径小，晶片表面损伤小；采用有机碱、无钠离子沾污；采用不含金属离子的螯合剂，对金属离子有极强的螯合作用；采用非离子型表面活性剂，能使磨料和反应产物容易从片材表面去除，抛光后杂质、颗粒沾污少，容易清洗；抛光液制备简单，容易操作。
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