本品铌酸锂晶体抛光液,对LN晶体的损伤小,清洗简单,抛光效率高,下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。
制备方法 将粒径40~70nm的硅溶胶用去离子水稀释。在搅拌的条件下,向其中加入醚醇类表面活性剂。在搅拌的条件下,向其中加入氧化剂,再向其中加入pH调节剂,搅拌均匀即可使用。
原料配伍 本品各组分质量份配比范围为:硅溶胶570~630、pH调节剂0.1~0.3、醚醇类表面活性剂0.5~2、氧化剂1.5~3、分散剂1~2.水1400~3400。
所述pH调节剂为KOH溶液和有机胺碱的混合液,KOH和有机碱酸的比例为(1~5):1。所述有机胺碱包括以下物质中的一种或多种:乙二胺,三乙胺、四乙基氢氧化胺。
所述的醚醇类活性剂是非离子活性剂,如脂肪醇聚氧乙烯醚(0~10)。壬基船聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、阴离子聚丙烯酸盐中的一种
所述氧化剂为二氯异氰尿酸钠,其分子式为C3C₁₂N3O3Na;所述二氯异氰尿酸钠也被称为优氯净。
所述分散剂包括以下物质中的一种或多种:聚乙二醇、聚乙烯醇、聚丙烯酸盐。
产品应用 本品主要应用于铌酸锂晶体的超精密加工。
产品特性 选用复合碱,如KOH和有机胺碱,KOH能够增强抛光液的化学作用,发生的反应方程式为:KOH+LiNbO₃—→LiOH+KNbO₃有机胺碱作为抛光液pH调节剂,能够很好地保持溶液的pH值稳定,确保化学作用的一致稳定,从而实现抛光速率的稳定,同时还能起到络合剂的作用,有助于抛光产物从晶体表面脱离,提高了抛光效率。
选用表面活性剂,增强了高低选择比,大大降低了表面张力,减少了损伤层,提高了质量传输速率,增强运输过程,成为高平整高光洁表面。
本品为碱性抛光液,具有对抛光设备无腐蚀,对环境无污染,稳定性好的特点。
选用纳米SiO₂溶胶作为抛光液磨料,其粒径小(40~70nm),硬度低(对LN晶体低损伤),分散性好(易清洗),提高了抛光表面的一致性,能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小,解决了目前金刚石磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端。
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