微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液(2)

本品主要用于微晶玻璃加工的纳米二氧化硅磨料的抛光，拥有较好的分散性，还可以减少抛光后的划伤，且抛光效率高，利于生产效率的提升。下面专家来科普本品纳米二氧化硅磨料抛光液的专业配方知识。

制备方法  先将气相二氧化硅粉末均匀溶解于去离子水中，然后在千 级净化室的环境内，常温条件下，在0.1MPa 真空负压动力下，通过质量 流量计将气相二氧化硅溶胶混合并充分搅拌，待混合均匀后将月桂酰单乙 醇胺和有机碱加入容器罐中并继续充分搅拌，混合均匀即成为本品的抛光 液成品。

原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：磨料I10～40、磨料Ⅱ 5～20、表面活性剂0.01～0.6、pH 调节剂1～6、去离子水加至100。

所述磨料I 是粒径为0～200nm 的水溶性二氧化硅溶胶；磨料Ⅱ是粒 径为0～200nm 的气相二氧化硅粉末；磨料I 的粒径优选10～80nm, 本 品选用粒径为10～30nm;  磨料Ⅱ的粒径优选50～150nm, 本品选用粒径 为80～120nm。

所述表面活性剂为非离子型表面活性剂：该非离子型表面活性剂为脂 防醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺。

所 述pH 调节剂为无机碱、有机碱或它们的组合：该有机碱为多羟基 多胺和胺中的一种或它们的组合。所述无机碱为氢氧化钾或氢氧化钠，所  述有机碱为多羟基多胺和胺中的至少任意一种。

本品选用的磨料I 为粒径较小的水溶性二氧化硅溶胶，其具有较好的 分散性，粒度分布均匀，能够有效减少微晶玻璃抛光后的表面划伤，同时 降低微品玻璃表面粗糙度和波纹度；选用磨料Ⅱ为粒径较大的气相二氧化 硅粉末。其能够有效提高抛光速率，提高生产效率，选用的表面活性剂为  非离子型表面活性剂，能够有效控制加工过程中抛光的均匀性。减少表面  缺陷，并提高抛光效率；加入pH 调节剂能够保证抛光液的稳定性，减少  对设备的腐蚀，也能起提高抛光速率的作用。

产品应用 本品主要用作抛光液。

产品特性 本品以粒径较小的水溶性二氧化硅溶胶和粒径较大的气相 二氧化硅粉末混合作为磨料，既提高了磨料的分散性能，减少抛光后微晶  玻璃表面划伤，而且使抛光后的微晶玻璃表面的粗糙度和波纹度降低：另外，可以大大提高抛光速率：再者，本品的抛光液为碱性。化学稳定性好，不腐蚀设备，使用的安全性能理想。

本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光   更多表面处理文章，敬请关注公众号：易镀

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