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微晶玻璃抛光液

2024-12-02 15:08:19        作者:    浏览:

本品微晶玻璃抛光液不仅可以避免有害物质侵入,还能预防因pH值不均衡导致反应釜边缘滞流层硅溶胶凝聚或溶解其过程成本低、无污染、效率高。下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。

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制备方法 将磨料碱性纳米SiO₂水溶胶在负压下形成涡流吸入负压  反应釜;用负压向反应釜中吸入去离子水;在负压涡流状态下逐渐加入胺  碱,胺碱调节pH 值为9~13;在负压涡流状态下逐渐加入FA/OⅡ 型螯 合剂;在负压涡流状态下逐渐加入FA/O  Ⅱ型活性剂;充分搅拌5~ 15min, 均匀后进行灌装。

原料配伍  本品各组分质量份配比范围为:磨料碱性纳米 SiO₂水溶 胶20~86、去离子水5~75、胺碱1~5、FA/OⅡ型活性剂0.25~2、 FA/OⅡ 型螯合剂0.25~2。

负压反应器及管道形成密闭系统,材质为有机玻璃,管道选用无污染 的聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种。

磨料为粒径15~45nm、分散度<0.0001的 SiO₂ 溶胶。胺碱是三乙醇 胺、四乙基氢氧化铵、乙二胺、羟乙基乙二胺或多亚乙基多胺中的一种 以上。

本品的要点在于封闭系统可避免敞开式的搅拌方式带来的污染,而且 比机械式搅拌会更及时、均匀,如不能及时均匀搅拌会形成胶冻而失效。 抛光液制备反应器采用负压搅拌的方法可避免有机物、金属离子、大颗粒 等有害污染物的引入;可使纳米硅溶胶在负压下呈涡流状态,防止层流区 硅溶胶的凝聚而无法作用;可使18MΩ以上超纯水溶解后的碱性pH 调节剂由于局部pH 值过高而导致凝聚,无法作用。

产品应用 本品主要应用于微晶玻璃抛光。

产品应用 本品主要应用于微晶玻璃抛光。

产品特性  选用碱性抛光液,可对设备无腐蚀,硅溶胶稳定性好,解 决了酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端;微晶玻璃与胺碱易生成可溶 性的胺化物,从而易脱离表面。

选用纳米SiO₂ 溶胶作为抛光液磨料,其粒径小(15~45nm)、 含量高 (>40%)、硬度小(对基片损伤度小)、分散度好,能够达到高速率高平 整低损伤抛光、污染小,解决了CeO₂ 、Al₂O₃ 磨料硬度大易划伤、易沉淀 等诸多弊端。

选用的反应器原材料为聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等;无污 染,应用效果显著。

负压搅拌的抛光液制备方法可避免有机物、金属离子、大颗粒等有害 污染物的引入。使纳米硅溶胶在负压下呈涡流状态,可防止反应釜边缘滞流层硅溶胶因局部pH 值不均衡而导致凝聚或溶解。在负压涡流状态下分别逐渐加FA/OⅡ 型螯合剂及FA/OⅡ型活性剂,这样搅拌均匀不会引入污染。

总之,该方法抛光液的制备方法,其操作简单,不需添加其他设备,成本低、效率高、无污染,可明显改善所生产器件的性能,大大提高成品率。



本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光   更多表面处理文章,敬请关注公众号易镀


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