硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液

本品适用于硬脆材料化学机械抛光的无磨料抛光，采用的无磨料抛光液加工有利于提高表面质量，无颗粒参与，不需要复杂的CMP 后清洗技术，且成本低，还环保，下面专家来科普本品硬脆材料无磨料抛光液的专业配方知识。

制备方法 将各组分混合搅拌均匀即可。

原料配伍 本品各组分质量份配比范围为：腐蚀剂0.5～40、腐蚀抑制 剂0.5~20、表面活性剂0.5~15、pH调节剂0.1~15、去离子水25～95.

上述所说的腐蚀剂可为：氢氟酸、磷酸、磷酸盐和焦磷酸盐的混 合液，也可以是草酸、浓硫酸、硝酸、盐酸、醋酸中一种或多种的混 合液。

上述所说的腐蚀抑制剂可以是：氯化铵、氟化铵、溴化铵中的一种或 几种的组合。

上述所说的表面活性剂可为：聚氧乙烯烷基酚、脂肪酸聚氧乙烯酯、 聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯酰胺、聚氧乙烯胺、烷基酚聚氧乙烯醚、高  碳脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种或几种组合。

上述所说的pH 调节剂可以是：氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、羟基 胺、四甲基氢氧化铵、三乙醇胺、乙醇钠、乙酸钠中的一种或几种的 组合。

产品应用 本品可广泛应用于半导体、玻璃、光学晶体、陶瓷等硬脆 材料的化学机械抛光加工，加工后的表面损伤小、表面质量高。

产品特性 本品的无磨料抛光液由于包含至少一种腐蚀剂，而腐蚀剂 与硬脆材料表面会发生化学反应，在材料表面生成反应物或使表面材料溶 解，反应物在抛光垫的作用下很容易被去除而不损伤基体表面。

本品涉及的无磨料抛光液由于包含至少一种腐蚀抑制剂，而腐蚀抑制 剂有一种抗腐蚀的作用，无磨料抛光过程中抑制或平衡腐蚀速率，有助于超光滑表面的形成。由于包含至少一种表面活性剂，而表面活性剂具有固 定的亲水基团，能使表面张力显著下降，能够使抛光液均匀地分布在抛光 材料表面。表面活性剂具有较强的渗透作用，能够加快抛光液与脆性材料 之间的质量交换，从而提高去除速率，而且表面活性剂渗透在被抛光材料 表面和被腐蚀掉的材料之间，避免了加工表面的污染。由于包含至少一种 pH  调节剂，而pH 调节剂可以调节抛光液的pH 值，使抛光液的pH值稳 定，使腐蚀剂腐蚀更加稳定，有助于得到较高的表面质量，同时，通过调 节 pH 值，可以尽量减少酸性环境对抛光设备的腐蚀。

本品由于采用去离子水作为溶剂，使添加的各组分容易均匀混合，抛 光过程中起润滑和帮助排泄抛光残渣的作用。

将本品的抛光液用于化学机械抛光时，与传统的游离磨料化学机械抛 光相比，加工过程是抛光液与被抛光材料表面发生化学反应，通过与抛光  垫的机械作用实现材料去除，加工中无磨料颗粒参与，不产生划痕、麻点  等损伤，无亚表面损伤。而传统游离磨料化学机械抛光是通过磨料颗粒和  抛光垫的机械磨削实现材料去除，容易产生颗粒吸附、凹陷、腐蚀和微观  划痕等表面损伤。所以，采用本品的无磨料抛光液加工有利于提高表面质  量。另外采用本品的无磨料抛光液，抛光过程中对抛光材料具有选择性， 不需要复杂的CMP 后清洗技术，只需简单刷洗，无颗粒参与，对环境要  求低、环保，不需要磨料供给系统、超清洁环境和CMP后清洗系统等， 降低了加工成本、提高了加工效率。

        本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光