用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液

本品是用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液，可将温度降至50～150℃，减少了高温引起的能源消耗及保证镀液的稳定，提高金刚石的平整性，降低粗糙度，下面专家来科普本品金刚石抛光液的配方知识。

制备方法  将磨料加入到去离子水中，超声波搅拌10～30min，使得磨料在去离子水中充分分散，配制成悬浮液。

在悬浮液中加入氧化剂和催化剂，进行加热的同时超声波搅拌10～15min，以使各种溶剂充分溶解和分散。

在该溶液中加入稳定剂和分散剂，超声波搅拌10～15min，即可制得抛光液。

原料配伍   本品各组分质量份配比范围为：磨料4～20、氧化剂5～30、稳定剂1～5、分散剂0.1～10、催化剂1～20、去离子水34～65。磨料为二氧化钛、二氧化硅、碳化硼、碳化硅、立方氮化硼、金刚石等磨料中的任意一种或者两种以上的混合，任意两种以上混合时，为任意配比。磨料纯度为98%～100%，粒度分布为50nm～14μm。

氧化剂为三氧化铬、过硫酸铵、高锰酸钾、重铬酸钾、双氧水、高铁 酸钾、高氯酸钾等中的任意一种或者两种以上的混合，任意两种以上混合时，为任意配比。

催化剂为硫酸、磷酸、硝酸、硫酸亚铁、硝酸铁中的任意一种或者两种以上的混合，任意两种以上混合时，为任意配比。

稳定剂为酒石酸、磷酸二氢钾、柠檬酸、马来酸、硅酸钠中的任意一 种或者两种以上的混合，任意两种以上混合时，为任意配比。

分散剂为硅溶胶、六偏磷酸钠、活性磷酸钙、硅酸钠中的任意一种或者两种以上的混合，任意两种以上混合时，为任意配比。

产品应用  本品主要应用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光。

产品特性  本品采用可在低温条件下对金刚石晶圆具有较强氧化剂作用的试剂作为主要成分，可使所需抛光温度降至50～150℃，有效地解决因抛光温度高而导致的能源消耗大、抛光液蒸发损失大、难以保证抛光液成分的稳定性等问题，尤其对于大尺寸金刚石晶圆的加工中，可有效解决高温引起的大尺寸抛光盘变形和金刚石晶圆翘曲变形等难题，提高金刚石晶圆的面型精度和表面质量，抛光后金刚石晶圆的表面粗糙度可达纳米级。此外，通过采用分散剂和吸附性较强的稳定剂等添加剂，提高抛光液的分散稳定性。


          本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光