用于光学加工的水基磁流变抛光液

本品是用于光学加工的水基磁流变抛光液，零磁场黏度低，还能提供高效率的磁流变抛光能力，流变性能好，抛光稳定可控，抗氧化性强，下面专家来科普本品水基磁流变抛光液的专业配方知识。

         制备方法   ①将触变剂加入到去离子水中，在室温下搅拌1h, 得 到 悬浮液；②将分散剂加入到步骤①的悬浮液中，在室温下搅拌0.5h: ③将润湿剂加入到步骤②得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5h；④ 将抗 氧化剂加入到步骤③得到的悬浮液中，在室温下搅拌1h；⑤ 将消泡剂加 人到步骤④得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5h；⑥ 将pH 调节剂加入到 步骤⑤得到的悬浮液中，在室温下搅拌1h，并将液体的pH 值调节到10， 从面得到水基复配载液；⑦将羰基铁粉、纳米铁粉和抛光粉氧化铈或金刚石微粉组成添加组分与上述步骤得到的水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1:10质量比加入钢球，以30r/min的速度球磨3h， 分离出钢球，得到水基磁流变抛光液。

原料配伍  本品各组分质量份配比范围为：水基复配载液14.29～75、添加组分25～100。

所述水基复配载液包括去离子水0～90、分散剂3～5、润湿剂2 ~5、触变剂3～5、pH 调节剂0.1～0.5、抗氧化剂0.1～0.5、消泡0.1～0.5。

所述添加剂组为羰基铁粉80～90、纳米铁粉4～10、抛光粉4～10。

所述羰基铁粉的平均粒径分布为1～10μm，为磁敏微粒，是水基磁流 变抛光液的主要成分，在磁场作用下呈链状。所述纳米铁粉的平均粒径分 布为10～50nm，为磁性微粒，是水基磁流变抛光液的附加成分，增强液 体的流变性。所述抛光粉的平均粒径分布在0.1~5 μm 之间，为水基磁流 变抛光液的主要成分。磨料在抛光过程中对材料具有去除作用，抛光粉成 分为氧化铈、氧化铝或金刚石微粉，具体根据实际抛光加工的工艺情况选 择一种。

所述分散剂为氨基羧酸盐，例如乙二胺四乙酸盐、二亚乙基三胺五乙酸盐、氨三乙酸钠，或有机膦酸盐，例如乙二胺四甲基膦酸盐、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸盐、胺三甲基膦酸盐。此类分散剂为螯合型分散剂，既有较强的螯合能力，还有较强的分散、悬浮作用；使各组分均匀混合，在液体中具有良好的悬浮性，不抱团，不凝聚。所述润湿剂为丙三醇，防止磁流变抛光液中的水分流失太快，保湿。

所述触变剂成分为纤维素醚的衍生物，如羧甲基纤维素钠，或为有机膨润土。触变剂增强磁流变抛光液的黏稠性，形成悬浮物，防沉降。去离子水为水基复配载液的载体，不含其他物质成分，具有冷却、润滑等作用 。

所述pH调节剂为碳酸钠或硼砂，所述抗氧化剂为亚硝酸钠或苯甲酸钠。

所述消泡剂为矿物油或石蜡，消除磁流变抛光液配制过程中出现的气泡。                                      

产品应用  本品主要应用于精密光学零件加工制造。

产品特性   本品的水基磁流变抛光液，零磁场黏度低，适合于磁流变抛光装置的循环控制系统循环使用。剪切屈服应力大，能够提供高效率的磁流变抛光能力。流变性能好，能够为磁流变抛光提供长时间稳定可控的去除函数模型。静置稳定性高，抗氧化性强，能够长时间重复使用。配制工艺简单、经济、环保。

       本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著    李东光