铜抛光液如何不使用铬酐和硝酸？

    铜件及其合金电镀之前，为了去除氧化皮或者增加光亮度，往往需要对铜件进行抛光处理。

    铜抛光液有三个体系：铬酐型，三酸型以及双氧水型，下面我们就逐个说明优缺点。

    一， 铬酐型。 常见的铬酐型抛光液包含铬酐80克，硫酸300-450ml，盐酸，3-5ml，硝酸3-5毫升。 光亮剂5-20克。 优点是成本低，适合各种材质的铜，消耗量低，寿命长，无烟等。缺点就是铬酐污染大，致癌。

    二， 三酸型。常见的三酸型铜抛光包含硫酸45%，硝酸钠100克，盐酸5毫升，光亮剂2-5克。优点是抛光速度快，光亮，成本低。缺点是有黄烟，操作环境差。

    三， 双氧水型。此类铜抛光包含双氧水30%体积，硫酸5-10ml，光亮剂50-100毫升。优点是无烟，环保，操作环境好，对人体无害，适用于各种铜合金。缺点是消耗量略大，成本稍高，且寿命短。

    对于环保越来越严格的今天，双氧水型的抛光液一定会成为未来的趋势及主流，所以今天我们就重点讲讲双氧水铜抛光剂

    其实所有的抛光剂基本构成都类似，氧化剂，酸，缓蚀剂，渗透剂等。

    双氧水就是作为氧化剂的用途，对铜件表面进行再次氧化，使原本不均匀的氧化层变差更加均匀，这样当酸将氧化层去除的时候，就会得到均匀的底层，而不会出现腐蚀不均匀的状态。

    硫酸的作用就是保证抛光液的酸度，达到腐蚀的平衡

    光亮剂的作用机理是缓蚀剂，使铜在酸性条件下不要过快腐蚀，保护凹处，腐蚀突起的部分，从而达到整平的作用。常见的缓蚀剂有硫脲，异硫脲及其衍生物，醚类等

    渗透剂的作用就是对于形状复杂的工件（凹槽，直角位等），降低表面的张力，使抛光液能与该位置的基材充分接触反应。

    现在双氧水抛光液的问题就是稳定性的问题，因为使用的时候需要温度维持在45-55度，且反应时候会升温，导致双氧水挥发，所以导致成本上升，寿命短。因此，好的双氧水的稳定剂就是关键，我们常用的EDTA, HEDP等，效果都不是很好，醚类和醇类效果稍好。可以作为首选。