原料配比(质量份)

[制备方法]

    先将二氧化硅粉末均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，常温条件下，在0.1MPa真空负压动力下将预先放置在容器罐中的水溶性二氧化硅溶胶混合并充分搅拌，待混合均匀后将聚合度为10的脂肪醇聚氧乙烯醚和氢氧化钾加入容器罐中并继续充分搅拌，混合均匀即成为本品的抛光液成品。

[原料配伍]    
    本品各组分质量份配比范围为:磨料10~30、表面活性剂5~10、pH调节剂1~6、去离子水加至100。

    所述磨料选用粒径为20~80nm的二氧化硅的水溶胶。

    所述表面活性剂为非离子型表面活性剂，该非离子型表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺，所述脂肪醇聚氧乙烯醚是聚合度为10的脂肪醇聚氧乙烯醚、聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚。所述烷基醇酰胺是月桂酰单乙醇胺。

    所述pH调节剂为无机碱、有机碱，无机碱为氢氧化钾或氢氧化钠; 
    有机碱为多羟多胺，多羟多胺是三乙醇胺、四羟基乙二胺或六羟基丙基丙二胺、乙二胺、四甲基氢氧化铵。

    本品铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，选用的磨料为粒径较大的水溶性二氧化硅溶胶，其具有较好的分散性，粒度分布均匀，能够有效控制抛光中的高低速率比;同时能够有效提高抛光速率，提高生产效率;
    选用的表面活性剂为非离子型表面活性剂，如脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺，该非离子型表面活性剂的加入能够有效控制加工过程中抛光的均匀性，减少表面缺陷，并提高抛光效率;该抛光液中加入pH值调节剂能够保证抛光液的稳定性，减少对设备的腐蚀，也能起到提高抛光速率的作用。

[产品应用]
    本品主要用作抛光液。

[产品特性]

    本品以粒径较大的水溶性二氧化硅溶胶作为磨料，既提高了磨料的分散性能，减少抛光后铜表面平坦度，又可以大大提高抛光速率;再者，本品的抛光液为碱性，化学稳定性好，不腐蚀设备，使用的安全性能理想。

本文转载自《金属表面处理剂配方手册》主编    李东光