本品主要用作化学机械抛光液。
原料配比(质量份)
[制备方法]
将各组分混合均匀，采用pH调节剂调节至合适的pH值即可。
[原料配伍]
本品各组分质量份配比范围为:研磨颗粒0.1 ~30、添加剂0.01 ~ 5、分散剂0.001 ~0.01、水加至100。
所述研磨颗粒较佳地选自SiO2、Al2O3、ZrO、CeO2、 SiC、 Fe2O3、 TiO2和Si3N4中的一-种或多种，更佳地为SiO2。
所述添加剂为选自氨基三亚甲基膦酸、三乙烯四胺六亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二乙烯三胺五亚甲基膦酸、氨基三亚甲基膦酸钠、三乙烯四胺六亚甲基膦酸钾、乙二胺四亚甲基膦酸铵、二乙烯三胺五亚甲基膦酸甲胺盐、氨基三亚甲基膦酸二乙胺盐、二乙烯三胺五亚甲基膦酸三乙胺盐、三乙烯四胺六亚甲基膦酸四甲基氢氧化铵盐中的一种或多种。
所述分散剂可选自聚合电解质，较佳地为聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚丙烯酰胺和聚环氧乙烷中的一种或多种。
所述的聚乙烯醇的相对分子质量较佳地为84000 ~ 89000，聚丙烯酸的相对分子质量较佳地为3000 ~5000，聚丙烯酰胺的相对分子质量较佳地为约30万，聚环氧乙烷的相对分子质量较佳地为9000~12500。
所述的表面活性剂可选自季铵盐型表面活性剂，例如:氯化十八烷基三甲基季铵盐。
本品的抛光液较佳地pH范围为8~ 12。
本品的抛光液还可含有本领域其他常规添加剂，如pH调节剂、分散剂和表面活性剂等。其中，所述的pH调节剂可选自NaOH、KOH、氨、有机碱和硝酸中的一种或多种。所述的有机碱较佳地选自伯胺、仲胺、叔胺和季铵碱中的一种或多种。
[产品应用]
本品主要用作化学机械抛光液。
[产品特性]
本品化学机械抛光液可显著提高多晶硅去除速率。
本文转载自《金属表面处理剂配方手册》主编 李东光
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