本品主要用作化学机械抛光液。
原料配比(质量份)
[制备方法]
将各组分混合到去离子水中，用酸性pH调节剂(如HNO3)调节到所需的pH值，即可得到拋光液。
[原料配伍]
本品各组分质量份配比范围为:二氧化硅研磨颗粒0.1 ~50、冠醚0.1 ~ 10、去离子水加至100。
所述的二氧化硅研磨颗粒为气相二氧化硅和/或胶体二氧化硅。
所述冠醚包括12-冠-4、15-冠-5、18-冠-6、二苯-18-冠-6和二氮-18-冠-6，优选18-冠-6。本品的pH值优选1~4。
本品还可以进一步包含其他常规添加剂，如加入络合剂进一步提高其他非金属的拋光速度;加入表面活性剂用于改善晶元表面的清洗，等等。
[产品应用]
本品主要用作化学机械抛光液。
[产品特性]
本品显著提升氮化硅的抛光速度。由于冠醚本身不是电解质，不含金属离子，因此不会造成对半导体器件的离子污染。此外，由于对氮化硅抛光速率的提高，减少了抛光时间，提高了生产效率，降低了制造成本。由于抛光速率的提高，还可以相对降低抛光液中化学品的用量，从而进一步 减少环境污染。
本文转载自《金属表面处理剂配方手册》主编 李东光
Copyright © 2021 深圳市恒享表面处理技术有限公司 All Rights Reserved 备案号：粤ICP备09192382号 技术支持：易百讯 - 深圳网站建设
