本品主要用作化学机械抛光液。
原料配比(质量份)
[制备方法]
将各组简单混合后，采用氢氧化钾、氨水和硝酸调节至合适的pH值，即可制得抛光液。
[原料配伍]
本品各组分质量份配比范围为:磨料颗粒1 ~20、季铵化合物0.01~0.2、氮化硅抛光加速剂0.001 ~0.2、水加至100。
所述研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈或掺铝的二氧化硅颗粒。研磨颗粒粒径为20~ 150nm。
所述季铵化合物为四甲基氢氧化铵和/或四丁基氢氧化铵。
所述氮化硅抛光加速剂为阴离子型表面活性剂，例如十二烷基苯磺酸、十二烷基苯磺酸钠、亚甲基双萘磺酸钠、烷基磷酸酯二乙醇胺盐、烷基磷酸酯三乙醇胺盐、多元醇磷酸酯、甘油聚氧丙烯醚磷酸酯三乙醇胺盐、丙烯酸-2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸共聚物、聚丙烯酸和阴离子聚丙烯酰胺等。
本品中，聚丙烯酸的相对分子质量为2000~5000，阴离子聚丙烯酰胺的相对分子质量为500万~ 1200万。
抛光液的pH为2~7，较佳为2~4。
[产品应用]
本品主要用作化学机械抛光液。
[产品特性]
本品有效地去除氮化硅材料;提供氮化硅材料对氧化硅材料的去除速率的选择性;减少在基底表面上形成的氧化物线的缺陷。
本文转载自《金属表面处理剂配方手册》主编 李东光
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