化学抛光由于具有不需要外加电源和复杂的挂具而且生产率也高等特点，所以工业上有广泛的应用。
化学抛光和电解抛光的原理大致相同，化学抛光的腐蚀电流来自金属表面的物理、化学性质的不一致性。在电解质溶液中，制件表面上有许多各不相同的部分，合金成分复杂，这种性质更加明显。金属表面电位较负的部分就是阳极，形成无数的瞬时闭合原电池，组成一个十分复杂的电极系统并产生强大的腐蚀电流。在足够的电流影响下，形成多孔性固态膜并在溶液中溶解，生成一层黏附性强的盐膜，凸起部位盐膜薄，凹的部位盐膜较厚，加上凸起部位膜又较疏松，所以溶解起来比凹部位的快，从而达到微观整平抛光的目的。
为了增加腐蚀电流，有时在抛光液中加入适量的铜盐(其他金属离子如Fe3+、Ni2+、CO2+也行)，使铜沉积在铝件表面起辅助电极的作用，从而加大了腐蚀电流，提高整平和光亮的效果。
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